问题
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根据调制过程是发生在激光器的内部还是外部,可以将光发射机中的调制分为()两种。A.直接调制和间接
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从当前界面开始,到“电话和调制解调器的选项”中,将系统中的标准56000bps调制解调器删除。
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下列关于软育剂基质的叙述,错误的是A.油腊性基质对皮肤有软化保护作用,且易清洗B.水溶性基质释放
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制备乳剂型基质的软育剂时,油相与水相的温度一般控制在A.50℃B.60℃C.70℃D.80℃E.90℃
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在Windows XP的“资源管理器”窗口中 为了将选定的硬盘上的文件或文件夹复制到软 盘上 应
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药材和饮片(矿物类除外)的二氧化硫残留量不得过200mg/kg。()
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