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问题

热退火用于消除离子注入造成的损伤,温度要低于杂质热扩散的温度,然而,杂质纵向分布仍会出现高


热退火用于消除离子注入造成的损伤,温度要低于杂质热扩散的温度,然而,杂质纵向分布仍会出现高斯展宽与拖尾现象,解释其原因。

参考答案
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  • 大青叶、板蓝根清热解毒,能消除热毒病因,故温热病的不同阶段均可使用。()

  • 能够减轻或消除热证的药物,其药性一般属于()A、寒、热B、寒、凉C、温、凉D、温、微寒E、平

  • 用于消除铸件、锻件、焊接件内应力的退火为()。A.扩散退火B.等温退火C.球化退火D.去应力退火

  • 能够减轻或消除热证的药物,其药性一般属于A、寒、热B、寒、凉C、温、凉D、温、微寒E、温、平

  • 回火的主要目的在于消除淬火造成的残余应力 故回火与去应力退火无本质区别。( )

  • 离子注入所造成的晶格损伤会直接影响半导体材料和器件的特性 主要影响有() 1 PN 结反向漏电流增大 2 载流子迁移率下降 3 少子寿命下降 4 杂质原子大多处于间隙位置不能提供导电性能