什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？

根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？

光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（)。A.刻制图形B.绘

光刻工艺一般都要经过涂胶、（)、曝光、（)、坚膜、腐蚀、（)等步骤。

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

光刻胶是什么