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问题

关于集成电路布图设计权 下列表述正确的有() A.受保护的布图设计应当具有独创性 B.受保护的布图


关于集成电路布图设计权,下列表述正确的有(  )

  A.受保护的布图设计应当具有独创性

  B.受保护的布图设计应当具有实用性

  C.在我国,布图设计专有权需经国家知识产权局登记产生

  D.布图设计专有权的保护期为10年,一律自布图设计登记申请之日起计算

参考答案
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