电化学发光免疫测定中常用的发光底物为( )A 吖啶酯类B 鲁米诺C 三联吡啶钉D HRPE AP

常用的ALP化学发光底物为A．吖啶酯B．三联吡啶钌C．鲁米诺或其衍生物D．4－MUPE．AMPPD

微粒子化学发光免疫分析(MLIA)中 作用于发生底物三氧乙烷的标记物是 ( )

化学发光免疫测定最常用的反应体系为 ( )

微粒子化学发光免疫分析(MLIA)中 作用于发生底物三氧乙烷的标记物是 ( )

化学发光免疫测定最常用的反应体系为 ( )

化学发光酶免疫测定中常用的发光底物为 A.吖啶酯类 B.鲁米诺 C.三联吡啶钌 D.HRP E.AP