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问题

14 PECVD 的全称是?


14 PECVD 的全称是?

A、等离子刻蚀

B、化学气相沉积

C、等离子增强化学气相沉积

D、物理化学气相沉积

参考答案
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  • 二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。

  • PECVD 的中文名称是等离子体增强化学气相沉积技术()

  • PECVD是指______

  • NRI的中文全称为网络资源标识 占用()的第23bit—14bit作为NRI标识。

  • LPCVD和PECVD的不同包括:

  • PECVD的一个基本特征是实现了薄膜沉积工艺的 低温化()