采用CF4作为气体源对SiO2进行刻蚀,在进气中分别加入O2或H2对刻蚀速率有什么影响?随着O2或H2进气量的增加,对Si和SiO2刻蚀选择性怎样变化?为什么?
简述BOE(或BHF)刻蚀SiO2的原理。
对易燃 有毒气体的置换 大多采用()等惰性气体作为置换介质 也可采用注水排气法 将易燃 有毒气体排
试解释为什么室温下CCl4是液体 CH4和CF4是气体 而Cl4是固体。
对于运行中的SF6设备 若检出CO CF4等杂质组分含量异常 应结合SO2或H2S含量及其它检测结果 设备电气特性 运行工况等进行综合分析()
对易燃 有毒气体的置换 大多采用()等惰性气体作为置换介质 也可采用注水排气法 将易燃 有毒
氩弧焊是采用工业纯氢作为保护气体的( )。