简述BOE（或BHF)刻蚀SiO2的原理。

根据原理分类，干法刻蚀分成几种？各有什么特点？

采用CF4作为气体源对SiO2进行刻蚀，在进气中分别加入O2或H2对刻蚀速率有什么影响？随着O2或H2进

在干法刻蚀的终点检测方法中，光学放射频谱分析法最常见，简述其工作原理和优缺点。

简述杂质在SiO2的存在形式及如何调节SiO2的物理性质。

反应离子腐蚀是（)。A.化学刻蚀机理B.物理刻蚀机理C.物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合

针对产品特殊特性 BOE规定涉及安全 法规类如UL安规认证 限用物质等为关键特性 使用“V”标识。()