光刻工艺一般都要经过涂胶、（)、曝光、（)、坚膜、腐蚀、（)等步骤。

一般而言，员工的职业发展，都要经过探索期、（)、职业中期、职业后期和衰退期。

根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？

光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（)。A.刻制图形B.绘

什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

每个经济周期一般都要经过()等阶段。